国家知识产权局信息显示，奥提赞光晶（上海）显示技术有限公司申请一项名为“一种高折射率调制度的全息光栅及其制备方法”的专利，公开号CN121477382A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明涉及全息光栅技术领域，尤其涉及一种高折射率调制度的全息光栅及其制备方法，制备方法包括步骤：利用前驱材料在光栅基底上进行涂布形成涂层，制成具有全息材料层的全息干板；对全息干板进行干涉曝光，得到半成品光栅；对半成品光栅进行漂白处理后，经萃取液进行浸泡处理，得到带有凹槽的光栅前体；利用含氟聚合物类掺杂剂填充所述凹槽，得到全息光栅。带有凹槽的光栅前体对应曝光亮区的是具有高折射率的聚合物，而曝光暗区的惰性体被去除，留下空气，在光栅表面形成一道道凹槽，其形貌高低起伏，使用低折射率物质填充凹槽，最终形成亮区位高折射率物质，暗区为低折射率物质的光栅结构；通过采用两步加工法，可制得反向不漏光的全息光栅。

天眼查资料显示，奥提赞光晶（上海）显示技术有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本121.3547万人民币。通过天眼查大数据分析，奥提赞光晶（上海）显示技术有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息68条，此外企业还拥有行政许可2个。

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来源：市场资讯